半导体掺杂规律

提问者:用户NUPZ 时间:2024-11-11 12:01:18 阅读: 2分钟

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半导体的常用掺杂技术主要有两种,即高温(热)扩散和离子注入。掺入的杂质主要有两类:

第一类是提供载流子的受主杂质或施主杂质(如Si中的B、P、As);

第二类是产生复合中心的重金属杂质(如Si中的Au)。

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